خصوصیات محفظه یونی در زمان کاشتمحفظه ویفر جهت یک فرآیند بر روی یک ویفر و یا چند ویفر، وابسته به چگالی توان پرتو و جریان یون ها ساخته می شود. در فرآیند گروهی، معمولا محفظه ویفر شامل چندین ویفر که روی …
بررسی منبع یون در دستگاه کاشت یونهدف از یک منبع یون، ساخت و نگهداری غلظت بالایی از یون ها در مخفظه ی مناسب می باشد. این یون ها، متمرکز شده و به شکل یک اشعه درآمده و می توانند از منبع خارج …
کاشت یون در الکترونیکامروزه با توجه به پیشرفت های صنعت نیمه هادی در زمینه های کاهش ابعاد ادوات نیمه هادی، افزایش تراکم مدارها بر روی تراشه و نیز استفاده ی گسترده تر از نیمه هادی هایی نظیر GaAs، استفاده …